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搜索结果: 1-15 共查到晶体管相关记录430条 . 查询时间(0.113 秒)
近日,南京大学物理学院、原子制造研究院张敏昊副研究员、宋凤麒教授课题组与华中科技大学卢兴教授课题组以及西安交通大学杨涛教授课题组等合作,基于Dy@C84团簇单分子晶体管电输运平台,结合理论计算分析,系统研究了单原子磁性的电调控。
磁子(Magnon)作为磁有序系统的元激发和携带角动量及相位信息的准粒子,是开发后摩尔时代波基计算(Wave based computing)及无焦耳热微电子器件的理想信息载体。磁子流的高效量子调控即是实现磁子集成电路的物理基础,也是研制磁子学(Magnonics)器件的难点和热点。2024年来研究人员提出了通过外磁场、微波电流、应力以及直流电流来实现磁子流的产生与调控,但这些常规调控方法由于在微...
有机发光晶体管(OLETs)是一种兼具有机场效应晶体管(OFETs)和有机发光二极管(OLEDs)功能的小型化光电集成器件,独特的电压驱动模式使其具有与现有制备工艺兼容、集成更容易等优势,被认为是实现下一代新型显示技术的重要器件基元。此外,OLET特有的栅压调控功能为实现高效的电子空穴传输及复合提供了新途径,使其在数据通信、照明、智能全彩显示技术以及高密度柔性可视化传感器等方面显示出应用潜力。
本发明提供一种基于仿真的锗硅异质结双极晶体管单粒子效应检测方法,该方法构建合理的锗硅异质结双极晶体管器件模型和网格;对构建的锗硅异质结双极晶体管器件模型的半导体器件特性进行仿真;开展锗硅异质结双极晶体管模型关键电学参数校准;在器件模型表面选取典型入射位置,开展单粒子效应物理模型仿真;分析不同位置下各电极电流和电荷收集与时间的关系,及不同位置漏斗势的变化情况,获得锗硅异质结双极晶体管对单粒子效应的敏...
本发明涉及一种用于横向NPN晶体管辐射损伤的定量分离测试方法,该方法涉及装置是由栅控横向NPN双极晶体管和HP4142半导体参数分析仪组成。本发明在常规双极NPN晶体管的CE结钝化层表面附加栅电极,所加栅电极既不影响器件的双极晶体管特性,又使的器件具有MOS管的特性,测试过程中通过在器件的表面附加一定的电场,使得器件基区表面能级发生弯曲,从而获得表面栅极电压随基极电流的变化趋势。本发明使用附加栅电...
本发明涉及一种用于纵向NPN晶体管电离辐射损伤的定量测试方法,该方法涉及装置是由栅控纵向NPN双极晶体管和HP4142半导体参数分析仪组成,利用附加栅电极半导体工艺,在常规双极NPN晶体管的CE、EB结钝化层表面附加栅电极,所加栅电极既不影响器件的双极常规特性,又使的器件具有MOS管特性,测试过程中通过在器件的表面附加一定的电场,使得器件基区表面能级发生弯曲,从而获得表面栅极电压随基极电流的变化趋...
本发明涉及一种基于仿真的锗硅异质结双极晶体管抗单粒子效应加固方法,该方法构建三维损伤模型,校准模型的关键电学参数,通过设计的抗辐射加固方法,延伸器件集电极-衬底结,引入伪集电极,利用SRIM软件模拟单个离子入射器件,获取线性能量传输值随器件深度的变化,编写线性能量传输值文件并嵌入器件模型,选取离子的典型入射位置,分别开展加固与未加固器件模型的单粒子效应仿真,将加固前器件模型作为参照,与加固后器件模...
有机无机金属卤化物钙钛矿材料凭借高的载流子迁移率在晶体管研究中引起广泛关注,2023年来钙钛矿场效应晶体管(PeFET)在探测器和突触中的应用已得到深入研究。然而,基于PeFET的突触仍然很难将优异的载流子传输能力、光敏性和非易失性存储效应集成到一个器件中,制约了人们进一步开发仿生电子器件和边缘计算。 
本发明涉及一种快速鉴别辐射后碳化硅垂直双扩散型晶体管寄生电容超出预值的方法,该方法涉及装置是由静电试验平台、样品测试版、电容‑电压单元模块、源测量单元模块和计算机组成,利用计算机中的扫描软件,设定的频率和电压扫描,得到碳化硅垂直双扩散型晶体管准确的结构电容数据,将结构电容数据经过优化拟合为结构电容曲线,将所得结构电容曲线自动去除尖峰,得到更为平滑的曲线,再对结构电容曲线通过固定的算法运...
本发明涉及一种多栅鳍式场效应晶体管电离总剂量效应的仿真方法,该方法利用TCAD仿真软件,依据器件实际的工艺和结构特性,建立三维仿真结构;通过调用基本物理模型,计算器件基本工作特性;将基本特性仿真结果与试验结果对比,修正仿真中的工艺参数和物理模型中的经验参数,使仿真结果最大程度与试验结果拟合;再增加电离总剂量辐射效应模型,并设置模型和材料参数,计算器件的总剂量辐射损伤特性;将器件辐射损伤特性仿真结果...
有机无机金属卤化物钙钛矿材料凭借高的载流子迁移率在晶体管研究中引起广泛关注,2023年来钙钛矿场效应晶体管(PeFET)在探测器和突触中的应用已得到深入研究。然而,基于PeFET的突触仍然很难将优异的载流子传输能力、光敏性和非易失性存储效应集成到一个器件中,制约了进一步开发仿生电子器件和边缘计算。
本发明涉及一种用于总剂量电离辐射后碳化硅垂直双扩散型晶体管开关响应异常变化的测试方法,该方法设计装置是由静电试验平台、样品测试版、脉冲发生器、高压电源、示波器和计算机组成,在一定时间内一定温度条件下利用示波器上的高压探头准确快速地测量碳化硅垂直双扩散型晶体管开关响应时间,测量时需在晶体管的栅极与脉冲发生器连接;然后由脉冲发生器发出预先设定周期,脉冲宽度,高位电压,低位电压的信号,再依据MIL...
2023年10月15日,在第4届中国计算机学会集成电路设计与自动化学术会议(CCF DAC)openDACS开源EDA专题论坛上,微电子所集成电路制造技术重点实验室(中国科学院)发布了开源非晶硅薄膜晶体管TFT工艺PDK。重点实验室李志强研究员作了发布报告。
本发明提供一种基于浮栅结构半导体晶体管的辐射剂量测量方法,主要解决现有技术无法对浮栅结构半导体晶体管的辐射剂量进行精确测量的技术问题。本发明通过对待测晶体管进行充电后测量,辐照后测量的方法并基于恒流法获取待测晶体管在辐射后与辐射前阈值电压的差值,并依据此方法获得不同辐射剂量下阈值电压的差值,最终计算得到待测晶体管阈值电压的差值随辐射剂量累积的变化曲线。本发明对浮栅器件进行多次编程和擦除,从而大幅提...
本发明涉及一种基于负衬底偏压的n型鳍式场效应晶体管加固方法,属于半导体器件抗辐射技术领域,包括辐照前衬底偏置电路搭建、辐照中施加负衬底偏置电压抑制辐射损伤、随着辐照剂量的增加,调整负衬底偏置电压的步骤。还涉及一种n型鳍式场效应晶体管,在衬底端口与集成电路地电位之间设置电压源,提供负偏置电压。本发明不改变晶体管器件的工艺流程,施加负衬底偏压提升晶体管阈值电压,使关态漏电流与初始值之差小于1个数量级,...

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