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介绍了一种使用聚酰亚胺和偶氮类染料进行液晶光诱导取向技术,深入研究了代号为SY04包含两个偶氮基团的新偶氮类染料.通过对取向膜偏振吸收光谱的分析,讨论了这种混合材料光诱导取向机理.由于聚酰亚胺良好的成膜性使得这种光诱导取向膜具有很好的稳定性,偶氮类染料的引入使得液晶表面取向更加有序,从而获得了响应快速,电光特性优良的液晶盒.这种取向膜材料同时具有很好的热稳定性及抗紫外稳定性.
期刊信息 篇名 含咔唑与偶氮分散红共聚物的表面增强共振拉曼光谱研究 语种 中文 撰写或编译 撰写 作者 王秀如,王长顺,莫育俊 第一作者单位 河南大学 刊物名称 光谱学与光谱分析(己录用) 页面 0000-0000 出版日期 2006年 月 日 文章标识(ISSN) 1000-0593 相关项目 聚合物材料的光学存储特性及其应用性基础研究
期刊信息 篇名 室温低压下脉冲等离子体生长立方氮化硼薄膜 语种 中文 撰写或编译 撰写 作者 闫鹏勋,杨思泽 第一作者单位 中国科学院物理研究所 刊物名称 金属学报 页面 1995,31,439 出版日期 1995年 4月 日 文章标识(ISSN) 相关项目 高能量密度等离子体法制备立方氮化硼薄膜
期刊信息 篇名 立方氮化硼薄膜的脉冲等离子体室温生长 语种 中文 撰写或编译 撰写 作者 闫鹏勋,杨思泽 第一作者单位 中国科学院物理研究所 刊物名称 科学通报 页面 1995,40,5 出版日期 1995年 8月 日 文章标识(ISSN) 相关项目 高能量密度等离子体法制备立方氮化硼薄膜
期刊信息 篇名 在DC-PCVD阴阳极上沉积氮化硅薄膜 语种 中文 撰写或编译 作者 杨川,吴大兴,高国庆等 第一作者单位 刊物名称 功能材料 页面 1997年12月,Vol.28,No.6 出版日期 1997年 月 日 文章标识(ISSN) 相关项目 直流等离子体法沉积氮化硅薄膜形成机理及性能研究
期刊信息 篇名 新型偶氮二阶非线性光学成膜材料 语种 中文 撰写或编译 作者 高丽华,黄春辉,李辉,王科志,黎甜楷,徐京梅,赵新生,夏晓华 第一作者单位 刊物名称 高等学校化学学报 页面 1995.16.510-11 出版日期 1995年 月 日 文章标识(ISSN) 相关项目 表面、界面的非线性光学研究(2)
期刊信息 篇名 新型含烯土的非线性光学材料---苯偶氮吡啶合镝的合成、表征及成膜性质 语种 中文 撰写或编译 作者 李辉,黄春辉,徐光宪,徐灵戈,黎甜楷,赵新生,谢晓明 第一作者单位 刊物名称 自然科学进展 页面 1995.5.474-78 出版日期 1995年 月 日 文章标识(ISSN) 相关项目 表面、界面的非线性光学研究(2)
期刊信息 篇名 氮原子离子束源的设计研制与应用 语种 中文 撰写或编译 撰写 作者 王培元,沈宏,秦宗益,应萱同,王培南 第一作者单位 刊物名称 真空科学与技术 页面 23(1),(2003)47-49 出版日期 2003年 月 日 文章标识(ISSN) 相关项目 低能氮离子注入金刚石薄膜的氮化改性研究
期刊信息 篇名 纳米二氧化钛的制备及氮等离子体改性的研究 语种 中文 撰写或编译 撰写 作者 邓仕英,李俊,刘长生 第一作者单位 武汉化工学院 刊物名称 武汉化工学院学报 页面 出版日期 2006年 5月 日 文章标识(ISSN) 1004-4736 相关项目 氮杂氧化钛修饰介孔聚合物透明光催化材料结构与性能研究
期刊信息 篇名 一种用等离子体法制备纳米氮杂氧化钛的方法 语种 中文 撰写或编译 撰写 作者 刘长生,马志斌,李俊,王卫红,周爱军 第一作者单位 武汉化工学院 刊物名称 中国发明专利,专利号:ZL 03119056.1 页面 出版日期 2005年 9月 日 文章标识(ISSN) 相关项目 氮杂氧化钛修饰介孔聚合物透明光催化材料结构与性能研究
期刊信息 篇名 等离子体制备氮化铁磁流体用高频高压脉冲电源的研制 语种 中文 撰写或编译 撰写 作者 薛志勇,朱玫,李学慧 第一作者单位 刊物名称 大连大学学报 页面 出版日期 年 月 日 文章标识(ISSN) 相关项目 等离子体氮化铁磁流体新工艺的基础研究
期刊信息 篇名 等离子体制备氮化铁磁性液体的装置(实用新型专利) 语种 中文 撰写或编译 撰写 作者 李学慧,陆鸿钧,薛志勇 第一作者单位 大连大学 刊物名称 授权单位:中华人民共和国国家知识产权局 页面 出版日期 2004年 11月 日 文章标识(ISSN) 专利号:ZL 2003 2 0105676.4 相关项目 等离子体氮化铁磁流体新工艺的基础研究
期刊信息 篇名 等离子体制备氮化铁磁性液体的方法及装置(发明专利) 语种 中文 撰写或编译 撰写 作者 李学慧,薛志勇,陆鸿钧,张秀玲 第一作者单位 大连大学 刊物名称 授权单位:中华人民共和国国家知识产权局 页面 出版日期 2006年 1月 日 文章标识(ISSN) 专利号:2003101052293 相关项目 等离子体氮化铁磁流体新工艺的基础研究
奖励信息 奖励名称 等离子体法制备氮化铁磁流体的新工艺 完成人 李学慧,薛志勇,安宏,齐锐,张萍 完成单位 大连大学 推荐单位 大连大学 授奖机构 大连市人民政府 授奖日期 2005年 1月 日 奖励种类 科技进步奖 奖励等级 三等奖 奖励编号 2004-3-09-1 相关项目 等离子体氮化铁磁流体新工艺的基础研究
利用六硝基六氮杂异伍兹烷(HNIW)晶体生长及添加剂附 着晶面的模拟,来优选添加剂使转晶得到的ε型HNIW晶体形状更规则;构立了ε型 HNIW晶胞模型,采用分子动力学方法模拟了晶体生长的外部形态。应用分子动力学计算,筛 选到能修改εHNIW晶体生长外形的T1、T2和T3添加剂。在转晶实验中利用T1、T2和T3 添加剂修改了εHNIW晶体的外形,与分子动力学模拟结果基本一致。结果表明,分子 动力学模...

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