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多靶磁控溅射镀膜设备
中南大学 湘雅医院 镀膜设备
2024/9/30
多靶磁控溅射镀膜设备,仪器编号:349991,生产厂家:成都同创材料表面科技有限公司,型号:PTL6S,制造国家:中国。
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高能冲击磁控溅射(HiPIMS)等离子体发生与成膜控制平台(图)
中国科学院 力学 等离子体
2024/7/23
高能冲击磁控溅射(HiPIMS)等离子体发生与成膜控制平台,主要功能与特色:高能冲击磁控溅射(HiPIMS)等离子体发生与成膜控制平台,将国际上新出现HiPIMS与等离子体基离子注入沉积方法相结合,采用前者获得淹没性的高离化率金属等离子体,通过溅射脉冲和高压脉冲的波形匹配实现参与成膜粒子能量可控,形成一种新颖的成膜过程控制技术。利用HiPIMS技术,金属Ti的离化率可达80%。粒子能量超过100e...
中国科学院合肥物质科学研究院专利:厚膜压阻式三轴向加速度传感器
中国科学院合肥物质科学研究院 专利 厚膜压阻 三轴向 加速度传感器
2023/12/21
中国科学院合肥物质科学研究院专利:一种厚膜三轴向传感器
中国科学院合肥物质科学研究院 专利 厚膜 三轴向 传感器
2023/12/20
中国科学院大连化学物理研究所专利:一种金属钯或钯合金复合膜氢气纯化器
中国科学院大连化学物理研究所 专利 钯 钯合金 复合膜 氢气纯化器
2023/11/28
中国科学院深圳先进技术研究院专利:玻璃基片装载装置及立式镀膜装置
中国科学院深圳先进技术研究院 专利 玻璃基片 装载装置 立式镀膜装置
2023/11/21
中国科学院大连化学物理研究所专利:一种四棱镜镀膜时的装夹装置
中国科学院大连化学物理研究所 专利 四棱镜 镀膜 装夹装置
2023/11/20
中国科学院大连化学物理研究所专利:一种甲醛气体传感器气敏膜的制备方法
中国科学院大连化学物理研究所 专利 甲醛 气体传感器 气敏膜
2023/11/8