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为了提升Al/Zr多层膜的热稳定性,采用直流磁控溅射方法制备了18个带有不同厚度Si间隔层的Al(1 wt.%Si)/Zr多层膜,并将这些样品分别进行了不同温度(100~500 ℃)的真空退火,退火时间为1 h.利用X射线掠入射反射(GIXR)和X射线衍射(XRD)的方法来研究Si间隔层对Al/Zr多层膜热稳定性的作用.GIXR测量结果表明：随着Si间隔层厚度的增大,Al膜层的粗糙度减小,而Zr膜...
借助Raman，IR和XRD等技术探讨了Si—Al—Zr—O系非晶在原位受控晶化过程中微结构变化。结果表明，Si—Al—Zr—O系非晶在920 ℃左右出现网络结构重整，形成了富Si区和富Zr和Al区。在920～950 ℃间，从富Zr区析出初晶相四方氧化锆，并从富Al区形成Al—Si尖晶石相。随着温度进一步升高，Al—Si尖晶石衍射峰先增强随后消失，同时在1 200～1 100, 1 000～700...