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主动驱动条件下研磨轨迹均匀性的研究（Uniformity of Kinematic Trajectory with Wafer Driving Initiatively in Plane Lapping Process）
平面研磨 主动驱动 均匀性 路径
2010/5/5
分析了主动驱动方式下平面研磨过程中工件的运动学特性，提出了研磨轨迹均匀性可以通过单位面积轨迹点的数量及其标准差来评价，理论分析了研磨盘和工件的转速比和偏心距对轨迹均匀性的影响。仿真表明，偏心距越小越有利于工件表面研磨轨迹的均匀分布，增大偏心距导致相对转速线速度偏差增大，不利于工件表面研磨轨迹的均匀分布。增大转速比使加工轨迹分布稀疏，轨迹曲线点的标准差大，加工均匀性差，研磨盘与工件具有相同的角速度时...
轴向柱塞泵平面配流副润滑特征参数实时测量（Real-time Measurement on Lubrication Characteristic Parameters of Plane Port Pair in Axial Piston Pumps）
轴向柱塞泵 配流副 润滑特性
2009/9/25
为研究轴向柱塞泵配流副的摩擦学特性，建立了模拟配流机构的润滑特性试验系统，以实测润滑特征参数，对工况进行实时调节与控制，寻求良好的润滑状态。论述了配流副润滑特性试验研究的优点，根据润滑理论模型分析了供油压力和油膜厚度等主要特征参数，提出了膜厚反馈的电液控制配流副油膜动态试验装置的结构及关键技术。通过平面配流密封带多点实测膜厚、泄漏流量、摩擦转矩的试验数据表明，供油压力对密封带润滑油膜厚度、形态等的...
The plane interaction theory of the cleaning vane with the head of a root crop
flexible cleaning vane head of root crop plane motion differential equation interaction
2014/2/26
New interaction theory of a flexible cleaning vane with the head surface of root crop in the case when the vane installed on the driving shaft makes a plane motion is proposed. Based on the obtained d...