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研究一种双金属接触的GaAs半导体探测器在14MeV中子辐照下的性能.测量了探测器经过1012n/cm2中子辐照剂量后的反向漏电流、电荷收集效率和最小电离粒子能谱,并且与60Co 1.25MeV光子辐照的测量结果相比较.对中子辐照引起探测器时间性能变化和辐照损伤机制进行了探讨.并根据实验结果提出了这种双金属接触GaAs探测器灵敏层分布的一种假设,理论计算和实验数据相符合.
详细讨论了GaAs/AlxGa1-xAs球形量子点内的单电子束缚能级随量子点半径、Al组分以及外电场的变化规律,并计算了考虑量子点内外电子有效质量不同后对电子能级的修正. 另外,用解析和平面波展开两种方法对球形量子点内的电子能级进行了计算,并对计算结果做了比较,发现它们符合的很好. 结论和方法为量子点的研究和应用提供了有益的信息和指导.
文章摘要: 用X射线漫散射研究了中子辐照GaAs中的缺陷. 结果表明: 中子辐照产生点缺陷团.辐照剂量为10 19m-2和10 21m-2时,缺陷团的平均半径分别为387nm和455nm. 这可能是高剂量辐照下损伤区域交叠的结果.平均半径随退火温度的升高而减小是间隙原子与空位复合造成的.

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