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一种基于三芯光子晶体光纤的宽带模分复用器的设计与研究
模分复用器 光子晶体光纤 插入损耗 超模
2022/3/24
本文提出了一种基于非对称三芯光子晶体光纤的宽带模分复用器.该器件主要是由位于光纤中心的可提供基模和高阶模传输的中心纤芯和分别位于中心纤芯两侧的可提供基模传输的2个旁芯构成.根据光耦合理论,在输入端对3个纤芯分别输入LP01模式的光,在传输过程中左旁芯的LP01模式的光将逐步向中心纤芯耦合并转换为LP21模式传输,而右旁芯中的LP01模式的光则逐步耦合并转换为中心纤芯中的LP31模式来传输.通过对光...
平场复用多焦点结构光照明超分辨显微成像
多焦点结构光照明显微技术 超分辨成像 平场照明 贝叶斯学习算法
2022/3/11
多焦点结构光照明显微技术（multifocalstructuredilluminationmicroscopy，MSIM）能在50μm的成像深度内和1Hz的成像速度下实现两倍于衍射极限分辨率的提升，相比传统的宽场结构光照明显微技术，具有较大的成像深度和层析能力，更适合应用于厚样品的长时程三维超分辨成像。然而，MSIM存在成像速度慢、图像处理过程复杂等问题。本文提出了一种基于平场复用多焦点结构光照明...
光纤基底TiNi形状记忆合金薄膜制备工艺
光纤 TiNi薄膜 磁控溅射 工艺参数
2022/3/17
将TiNi基记忆合金薄膜与光纤相结合可制成智能化、集成化且成本经济的微机电系统和微传感器件。本文采用磁控溅射法在二氧化硅光纤基底上制备TiNi记忆合金薄膜，系统讨论了溅射工艺参数以及后续退火处理对薄膜质量的影响。采用自研制光纤镀膜掩膜装置在直径为125μm的光纤圆周表面上形成均匀薄膜。实验表明：在靶基距、背底真空度、Ar气流量和溅射时间一定的条件下，溅射功率存在最佳值；溅射压强较大时，薄膜沉积速率...