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中国科学院化学研究所专利：有机无机杂化室温金属性分子磁体及其制备方法
中国科学院化学研究所 专利 杂化 室温 金属性 分子磁体
2023/7/12
中国科学院化学研究所专利：有机无机杂化室温金属性分子磁体及其制备方法
西安交通大学研究人员在纳米杂化结构合成上取得重要进展（图）
西安交通大学 研究人员 米杂化结构合成
2016/10/20
掩膜法被大量应用于集成电路中，通常用选定的图像、图形或物体，对处理的基板材料进行遮挡，从而对内部材料进行刻蚀处理。用于被处理材料表面进行覆盖的特定图像或物体称为掩膜，通常我们所指的掩膜都是二维的，同时现有掩膜法的分辨率通常在十几纳米至几微米之间。