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聚焦离子束刻蚀多晶TiNi薄膜的表面形貌形状记忆合金离子束刻蚀表面形貌 2008/12/11

报道了TiNi薄膜的聚焦离子束刻蚀特征及刻蚀后的表面形貌．测量结果表明薄膜的表面粗糙度随刻蚀深度呈非线性变化，当刻蚀深度等于0．1μm时，表面粗糙度为最小（5．26nm，刻蚀前为14．88nm）；刻蚀深度小于0．1μm时，表面粗糙度随刻蚀深度的增大而减小；当刻蚀深度大于0．1μm时表面粗糙度随刻蚀深度增大而增大，其原因是刻蚀深度大于0．1μm后表面出现了清晰的周期性条纹结构．此外，表面粗糙度随聚焦...