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中国科学院大连化学物理研究所专利：一种磁控溅射装置及其应用
中国科学院大连化学物理研究所 专利 磁控溅射
2023/12/20
一种磁控溅射装置及其应用，能够使管型或圆柱状基底在轴向上连续旋转，轴向转速与基底温度可调可控，且在加热的条件下能够保持基底温度均匀一致，能够在管型及圆柱状基底上沉积制备出均匀的固体薄膜，扩展了磁控溅射方法的使用范围。
中国科学院力学所建成高能冲击磁控溅射装备系统并开放服务（图）
中国科学院力学所 磁 装备
2015/1/5
表面工程提高材料摩擦磨损、耐腐蚀性能的同时，还赋予材料新的表面功能，为解决人类发展中遇到的资源、能源等问题起到了不可替代的重要作用。作为表面工程领域的重要分支，我国亟需提升物理气相沉积（PVD）的技术能力。