搜索结果: 1-15 共查到“物理学 沉积”相关记录78条 . 查询时间(0.183 秒)
中国科学院大连化学物理研究所专利：一种等离子体辅助磁控溅射沉积方法
中国科学院大连化学物理研究所 专利 等离子体 磁控溅射 沉积方法
2023/12/29
本发明涉及一种等离子体辅助磁控溅射沉积镀膜技术。利用磁控溅射制备金属化合物薄膜时，为了克服靶中毒、阳极消失等现象，一般采用中频或脉冲直流反应磁控溅射方法。本发明提出一种新型的等离子体辅助沉积方法，通过在真空室内增加一等离子体放电区，工件架在随公转盘公转的同时高速自转，工件转过此等离子体放电区时，反应未完全的超薄层薄膜进一步与气体离子进行化和反应，从而得到更高化学计量比的化合物薄膜，大大提高了薄膜的...
中国科学院金属研究所专利：耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置
中国科学院金属研究所 专利 耦合磁场 电弧离子镀 沉积装置
2023/12/26
本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种耦合磁场辅助电弧离子镀沉 积装置,用以提高薄膜的沉积速率和沉积均匀性,减少靶材大颗粒的发射,提高 靶材刻蚀均匀性。本实用新型电弧离子镀沉积装置设有两套磁场发生装置,一套 放置于靶材后面,另一套放置于真空室内,通过两套耦合的磁场发生装置产生的 耦合磁场辅助对基体进行沉积。本实用新型通过两套耦合的磁场发生装置产生的 耦合磁场,解决了传统工艺等离子在传输空间分布...
中国科学院金属研究所专利：一种改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置
中国科学院金属研究所 专利 电弧离子镀 沉积工艺 动态磁控弧源
2023/12/25
本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种新型的改善电弧离子镀沉积 工艺的动态磁控弧源装置。所述改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置设 有动态控制磁场发生装置、靶材、靶材底座,靶材安装于靶材底座上,动态控制 磁场发生装置为主控磁场发生装置和辅助磁场发生装置构成,主控磁场发生装置 放置于靶材后面,和靶材同轴放置,辅助磁场发生装置套在主控磁场发生装置周 围。本实用新型通过两组磁场发生装置配合使用,...
上海光机所采用两步变温沉积揭示基底亚表面缺陷诱导激光薄膜损伤机制（图）
沉积 激光薄膜
2023/11/29
2023年10月26日，中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室在基于两步变温沉积法探究基底亚表面杂质缺陷对分光薄膜激光损伤阈值（LIDT）的影响机制方面取得进展。相应研究成果以“Effect of subsurface impurity defects on laser damage resistance of beam splitter coatings”为题，发表于High Power...
新型高K栅介质双沟道GaN基MOS-HEMT器件的栅极介质沉积工艺与电流坍塌效应的研究。
中国科学院金属研究所专利：一种磁控电弧离子镀复合沉积工艺和沉积装置
中国科学院金属研究所 专利 磁控 电弧离子镀 复合沉积工艺 沉积装置
2023/8/21
中国科学院金属研究所专利：一种磁控电弧离子镀复合沉积工艺和沉积装置
近日，南方科技大学电子与电气工程系讲席教授孙小卫团队与华星光电半导体显示技术有限公司、北京大学信息工程学院合作，开发了新型的选择性电沉积技术，实现了大于1000PPI的全色大面积量子点（QDs）图案化彩膜及高性能QLED器件的制备。相关研究成果以“Large-Area Patterning of Full-Color Quantum Dot Arrays Beyond 1000 Pixels Pe...
拓扑半金属WC表面沉积金属薄膜诱导的界面超导（图）
拓扑半金属 WC 表面沉积金属薄膜 界面超导
2020/4/27
中国科学院物理研究所/北京凝聚态物理国家研究中心超导国家重点实验室SC10组长期致力于各种新型拓扑、超导等材料的制备和探索；安徽大学物质科学与信息技术研究院单磊教授（原物理所研究员）团队专注于超导以及拓扑材料的点接触和扫描隧道谱研究。近年来，两个团队密切合作、联合攻关，尝试在多种拓扑材料中实现超导。陈根富研究员指导的博士后何俊宝、博士生陈栋（已毕业）等成功生长出了在费米面附近具有三重简并点的拓扑半...
空间液滴操控及颗粒沉积研究取得重要进展（图）
空间液滴 操控 颗粒沉积 研究
2018/12/28
在过去的二十年里，液滴蒸发中的微流动和颗粒沉积引起了科学家极大的研究兴趣，这既因为蒸发过程中蕴含着丰富的物理学现象，例如常见的“咖啡环效应”，又由于其在绿色印刷、微纳器件制备、疾病诊断等领域展现出广阔的应用前景。同时，作为人体体液等复杂体系的一种简单模型，研究胶体液滴的操控、蒸发及颗粒沉积，可为未来空间探索任务中的复杂流体管理、资源再生与利用、宇航员生理状况监测等提供理论指导和技术支持。然而，蒸发...
原子层沉积技术开发者获2018年“千年技术奖”
原子层沉积 2018年 千年技术奖 信息技术领域
2018/5/24
芬兰技术学会２２日宣布，将２０１８年“千年技术奖”授予芬兰物理学家图奥莫·松托拉，以表彰他研发了在信息技术领域发挥重要作用的原子层沉积技术。
原子层沉积技术可以将物质以单原子膜形式一层一层镀在基底表面，在许多高科技领域发挥着重要作用。目前，所有的计算机和智能手机都使用以原子层沉积技术制成的薄膜元件。随着原子层沉积技术不断发展，信息技术设备变得体积越来越小，成本越来越低，功能越来越强大。
芬兰技...
中国科学院等离子物理研究所偏滤器热沉积宽度研究方面取得进展（图）
等离子体 偏滤器 热沉积 宽度研究
2018/5/10
近日，等离子体所EAST团队科研人员在研究托卡马克装置不同加热方式下的偏滤器热沉积宽度方面取得进展，相关研究成果由博士研究生邓国忠以“Experimental study of heating scheme effect on the inner divertor power footprint widths in EAST lower single null discharges”为题在Plas...
近日，中国科学院合肥物质科学研究院等离子体物理研究所托卡马克物理研究室、德国尤利希研究中心、与美国通用原子能公司等合作，在研究托卡马克偏滤器三维热与粒子沉积物理方面取得新进展。相关研究结果以Evidence and modeling of 3D divertor footprint induced by lower hybrid waves on EAST with tungsten divert...
第十四届等离子体离子注入与沉积国际会议（14th International Conference on Plasma Based Ion Implantation&Deposition）
第十四届 等离子体离子注入与沉积 国际会议
2017/7/17
It is our great pleasure to announce that the 14th International Conference on Plasma Based Ion Implantation & Deposition, PBII&D 2017 will be held at the banqueting hall on the third floor of New Wo...